晶体管
-
三星3nm良率超60%、2nm达40%，正与客户评估性能
在半导体行业竞争日益激烈的背景下，三星电子近期传出的3nm和2nm制程工艺良率数据无疑引发了广泛关注。据《科创板日报》报道，三星基于GAA（Gate-All-Around）晶体管结构的3nm节点良率已超过60%，而更先进的2nm节点良率也达到了40%以上。这一进展不仅标志着三星在先进制程技术上的突破，也为全球芯片市场注入了新的变量。 从技术角度来看，GAA晶…
在半导体行业竞争日益激烈的背景下，三星电子近期传出的3nm和2nm制程工艺良率数据无疑引发了广泛关注。据《科创板日报》报道，三星基于GAA（Gate-All-Around）晶体管结构的3nm节点良率已超过60%，而更先进的2nm节点良率也达到了40%以上。这一进展不仅标志着三星在先进制程技术上的突破，也为全球芯片市场注入了新的变量。 从技术角度来看，GAA晶…
